「ホットプレート 実験」の検索結果

※ ウエハー、チップを研磨する際に、試料をサブストレートに貼り付けるための接着用ワックスです。 ※ 摂氏50度に加熱すると軟化しますので、取扱いが簡単です。 (手順) (1) 試料ホルダーなどをホットプレートに載せて、摂氏50度に加熱させた後、アルコワックスを塗布します。 (2) トロトロになった状態のアルコワックス上に試料を置きます。 (3) ホットプレートの加熱をオフにして、冷まします。 (4) アルコワックスは、冷めると固まり、試料を固定します。 (5) 試料を外し場合は、再び加熱してアルコワックスを溶かします。

熱伝導、温度分布の良いアルミ天板のホットプレートです。温度の安定が早く、極めて均一な温度を維持します。

熱伝導、温度分布の良いアルミ天板のホットプレートです。温度の安定が早く、極めて均一な温度を維持します。プログラム機能付で温度上昇をコントロールできます。

増田理化工業製ホットプレート用のカバーです(HP-50S/MHP-450/HHP-50SHHP-51S/HHP-61S)。昇温時間を約20%短縮しています。(室温→300℃時)フタ内部に断熱材を使用しており、省エネルギー化と安全対策を行っています。本カバーはプレートに対して蓋をしますので、横滑りによる落下が起きません。使用後、安全におけるスタンドを付属しています。

増田理化工業製ホットプレート用のカバーです(HP-30S/MHP-430/HHP-30S)。昇温時間を約20%短縮しています。(室温→300℃時)フタ内部に断熱材を使用しており、省エネルギー化と安全対策を行っています。本カバーはプレートに対して蓋をしますので、横滑りによる落下が起きません。使用後、安全におけるスタンドを付属しています。

プレートと温調器が分離しているセパレート型のホットプレートです。ドラフトチャンバー内での使用に適しています。特殊ヒーターにより最高温度600℃を実現しました。枠ありプレート仕様です。

5℃～105℃の広い範囲で精度の高い温度制御が可能です。マグネティックスターラーの上に置くだけで、冷却・加熱が行えるスターラーとして使用できるようになります。

電源OFF後も点滅ライトで天板の温度状態(高温注意)を知らせます。

ホットスターラーに使用するアタッチメントです。同時に複数の反応を行うことができます。

Point1：真空計と真空・充填スイッチ。▼キャッパー内部の圧力を確認しながら調整します。Point2：ガス導入口。▼流入量を絞るために調整バルブつきです。Point3：エアフィルター。▼ゴミの流入を防ぐためのフィルター付きです。Point4：パッキン。▼ボトルの肩や実験台など平らな面にあてて内部を密閉状態にします。試薬瓶や保管容器のガス置換が実現できます。真空引きにより、容器内の酸素、水分を徹底除去し、ピュアな状態でキャップ締めが可能です。外気に一切触れることなく蓋を閉めることができます。

陰圧に耐えられないプラスチック製容器にも使用可能な利便性が高い汎用モデルです。

真空対応の硬質容器の蓋閉めに特化したコンパクトモデルです。

耐久性に優れた設計：頑丈な金属製の筐体は、過酷な条件下のラボで長期間使用できるように防滴設計になっています。 滑らかで耐薬品性に優れたセラミックトッププレートは、お手入れが簡単です。、安全性(最重要)：ヒーターが 40℃ を超えると目立つホットトップ インジケータ ライトが点灯し、すべての加熱アプリケーションでエンドユーザーを安全に保ちます。

マイクロプロセッサーによる閉ループ温度制御により加熱動作精度は±2℃です。

中温度専用で、温度精度は±0.1℃～±0.5℃以内に保てます。軽くて持ち運びが楽で、背の低い安定形です。

SUSバットホットプレートの上に載せて解剖向け

小形、軽量で取扱い簡便な真空乾燥器ガラスベルジャーで内部観察ができます。PID制御のデジタル温調器でプレート温度は高精度に保てます。ガス置換ができます。汎用アルミブロック付属アルミブロックを外してフラットなプレートとしても使用可

スマートなボディで使いやすさ抜群です。温度設定はタッチ式ですばやく反応します。プレートにアクリル製フタをかぶせて、低温庫としても使えます。アクリル蓋温度調節はPID制御で低温、高温ともに高精度に保てます。プレート表面左右にアクリル蓋ガイドあり温度精度 室温25℃時表面温度計で測定(中心部)0℃設定 0.3℃ / 5℃設定5.2℃ / 10℃設定10.3℃ / 37℃設定37.5℃

SUSバットホットプレートの上に載せて解剖向け

中温度専用で、温度精度は±0.1℃～±0.5℃以内に保てます。軽くて持ち運びが楽で、背の低い安定形です。

従来型(AB-TC1/-TC2)の下に広いベース部分を持つ二段構造で、プレートを載せたままのハンドリングが容易です。持ち手部分は指をかけやすい凹みとすべり止め効果がある波型加工になっています。二段構造になっているため、氷上冷却時の取り扱いにも便利です。従来型(AB-TC1/AB-TC2)に比べ、厚みが2倍になっており、温度保持性能が向上しました

温度による影響が大きい酵素反応やELISAなどの実験に適しています。特に、ウェル間の温度均一性が求められる実験では非常に効果的です。正確な温度管理を必要とする放射性物質などの細胞内取り込み実験にもご使用いただけます。熱伝導率が高いアルミプレートをマルチウェルプレート底面にセットすることで、ウェル間の温度を均一にすることができま

トッププレートにはセラミックコーティングを施し、耐熱性、耐薬品性及び耐食性に強く、白色なので滴定時に観察がしやすくなっています。トッププレートは熱伝導性に優れ、プレート全体の表面温度を常に均一に維持します。別売の専用K熱電対を使用すると直接サンプルの温度制御が可能です。

トッププレートにはセラミックコーティングを施し、耐熱性、耐薬品性及び耐食性に強く、白色なので滴定時に観察がしやすくなっています。トッププレートは熱伝導性に優れ、プレート全体の表面温度を常に均一に維持します。

トッププレートにはセラミックコーティングを施し、耐熱性、耐薬品性及び耐食性に強く、白色なので滴定時に観察がしやすくなっています。トッププレートは熱伝導性に優れ、プレート全体の表面温度を常に均一に維持します。別売の専用K熱電対を使用すると直接サンプルの温度制御が可能です。

トッププレートにはセラミックコーティングを施し、耐熱性、耐薬品性及び耐食性に強く、白色なので滴定時に観察がしやすくなっています。トッププレートは熱伝導性に優れ、プレート全体の表面温度を常に均一に維持します。

マイコン式PID制御を採用し、高精度な温度コントロールが可能です。表示部には視認性に優れた液晶画面を採用しています。4種類のタイマー機能(ON・OFF・ON/OFF・SET)を標準装備し、プログラム機能は最大8ステップまでの温度・時間の入力が可能です。データ記録通信のための専用ソフト(CDROM)・通信ケーブル(オプション)により、容易にパソコンでデータを管理する事が可能です。外部温度センサー(オプション)の使用で直接試料温度をコントロールする事が可能です。アラーム信号出力を標準装備し、異常時に他機器の停止や予備システムの起動を行う事が可能です。本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度55℃以下になるまで点灯)。安全装置は2つの独立した回路からなるダブルロック機構を採用しています。最高温度まで約30分で昇温します。天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

培地交換や薬剤添加の際、インキュベーターから取り出した細胞培養プレートを保温し、細胞へのダメージを防ぐ、熱安定性に優れた保温装置です。 導電性高分子の技術を加温機構に利用しており、熱安定性に優れています。 電源の使用の他、クリーンベンチ等、電源の確保が難しい場所には充電池を使用するなど、状況に合わせてお使いいただけます。 付属の充電池で、最大で連続2時間の動作が可能です。

ダイヤル調節式のホットプレートです。プレートはセラミックコーティングされているため、耐熱性・耐薬品性に優れています。

ステンレス箔を袋状にしたもので、空気中での加熱による酸化、燃焼現象を防止する必要がある物の加熱処理に使用できます。

四隅のない円筒炉のため、ワークへの加熱がむらなく行えます。また、上蓋式の扉により、ワークの出し入れが容易で安全です。 設定温度とタイマーをセットするだけの簡単操作です。温度調節器にはタイマーが内蔵されており、保持時間後にブザー警報します。