実験研究用ホットプレート

温度設定がデジタル入力(10℃単位)ですので細かい温度設定が可能です。 セラミックガラス製プレートのため耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度550℃(CHP-400DNは350℃)までの高温加熱用途にご使用いただけます。 新アルゴリズムによるPID温度制御により、プレート温度制御が向上しました。

マイコン式PID制御を採用し、高精度な温度コントロールが可能です。 表示部には視認性に優れた液晶画面を採用しています。 4種類のタイマー機能(ON・OFF・ON/OFF・SET)を標準装備し、プログラム機能は最大8ステップまでの温度・時間の入力が可能です。 データ記録通信のための専用ソフト(CDROM)・通信ケーブル(オプション)により、容易にパソコンでデータを管理する事が可能です。 外部温度センサー(オプション)の使用で直接試料温度をコントロールする事が可能です。 アラーム信号出力を標準装備し、異常時に他機器の停止や予備システムの起動を行う事が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度55℃以下になるまで点灯)。 安全装置は2つの独立した回路からなるダブルロック機構を採用しています。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

新アルゴリズムによるPID制御により、プレート温度制御が向上しました。天板が高温になると警告ランプが点灯します。

セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度550℃(CHP-400AFは350℃)までの高温加熱用途に使用できます。 天板が高温になると警告ランプが点灯します。

ダイヤル調節式のホットプレートです。プレートはセラミックコーティングされているため、耐熱性・耐薬品性に優れています。

アルミプレート表面をセラミックコーティングし、耐久性が優れています。安全装置として過電流ブレーカー付。

加熱板・ヒーター・熱電対温度センサーから構成されたシンプルなホットプレートです。

設定値と実測値がひと目でわかる2段デジタル表示式です。ペルチェ素子のPID制御により高精度の温度制御が可能です。タイマー付きです。天板が大きいため、大きい試料・サンプルの実験に適しています。冷却・加熱両方対応可能です。大きいプレートの冷却・加熱タイプ!

プレート表面をセラミックコーティングしている為、耐久性に優れています。

大好評のセラミックホットプレートに枠無しプレートタイプがラインナップ追加です。デジタル仕様でボタン入力(10℃単位)で温度設定が可能です。セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。最高温度550℃までの高温加熱用途に使用できます。天板が高温になると警告ランプが点灯します

プレート天面を効果的に冷却し、0℃以下では過冷却防止機能が作動します。天板温度測定用にフリッジインジケーターが付属されています。卓上での簡易冷却・保冷

プレートには熱伝導に良いアルミニウムを使用。密閉型ステンレス製パイプヒータを埋め込んでおり、長寿命。温度ヒューズ(76℃)、過熱防止機能付。クリーンルームでの使用も可能。

液体膨張式の温度調節器。高温でも高精度な温度コンロトールが行えます。外装への放熱が少ない堅牢設計です。 。サンドバスとしても使用できます。

セラミック製天板により耐久性・耐熱性・耐薬品性に優れています。最高温度550℃までの高耐熱タイプです。天板が50℃以上で警告ランプが点灯します。

中温度専用で温度分布精度が高いホットプレートです。 ●パラフィンの伸展に使用できます。 ●天板は耐薬品性に優れるステンレス製です。ステージはフラットで背が低く、作業が行いやすくなっています。

高精度デジタル温度指示調節器付き、ステージが広くステンレス製で、背の低い安定形です。持運びも楽にできます。

ホットプレート、ホットスターラーに使える温度センサーです。

耐薬品性に優れたセラミック製天板を採用しており正確で安全な加熱と温度制御ができます。高温お知らせ機能付で点滅ライトで天板の温度状態をお知らせする安全設計。またエラーコードも表示いたします。天板温度が550℃を超えると自動で電源を切ります。コントロールパネルの位置を前面の高位置に配置し、もしもの時の試料の浸入を防止できるようにデザインされています。

Point1：真空計と真空・充填スイッチ。▼キャッパー内部の圧力を確認しながら調整します。Point2：ガス導入口。▼流入量を絞るために調整バルブつきです。Point3：エアフィルター。▼ゴミの流入を防ぐためのフィルター付きです。Point4：パッキン。▼ボトルの肩や実験台など平らな面にあてて内部を密閉状態にします。試薬瓶や保管容器のガス置換が実現できます。真空引きにより、容器内の酸素、水分を徹底除去し、ピュアな状態でキャップ締めが可能です。外気に一切触れることなく蓋を閉めることができます。

真空対応の硬質容器の蓋閉めに特化したコンパクトモデルです。

中温度専用で、温度精度は±0.1℃～±0.5℃以内に保てます。軽くて持ち運びが楽で、背の低い安定形です。

温度による影響が大きい酵素反応やELISAなどの実験に適しています。特に、ウェル間の温度均一性が求められる実験では非常に効果的です。正確な温度管理を必要とする放射性物質などの細胞内取り込み実験にもご使用いただけます。熱伝導率が高いアルミプレートをマルチウェルプレート底面にセットすることで、ウェル間の温度を均一にすることができま

最薄ホットプレート最高温度150℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

最薄ホットプレート最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、300℃で薄型タイプ(高さ33mm)、ヒータ実装に特長があり、長時間稼働も可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

真空炉・雰囲気炉を使用せずに、通常の電気炉で無酸化・無脱炭に近い熱処理を行うことが可能です。密閉した後、そのまま加熱及び冷却することにより光輝熱処理が可能です。仕上工程の省力化に優れています。

真空炉・雰囲気炉を使用せずに、通常の電気炉で無酸化・無脱炭に近い熱処理を行うことが可能です。密閉した後、そのまま加熱及び冷却することにより光輝熱処理が可能です。仕上工程の省力化に優れています。

デジタル温度調節器搭載(PID制御)で天板を一定温度に保つことができます。冷却・加温の両方ができ、タイマー機能付きです。卓上での簡易冷却・保冷

マイコン式比例制御方式で、安定した温度制御が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度が55℃以下になるまで点灯)。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

水、油などの熱媒体を使用せずに、微量な試料の加水分解、濃縮、加熱処理などに利用できます。ヒーター面の試料は、ガラスベルジャーで覆っていますので、減圧下で濃縮や乾燥ができます。また、バルブを設けていますので不活性な雰囲気での一時的な保管やガス置換も可能で、医薬品などの減量試験に適しています。