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ヘリウムガス7000Lボンベ1本積用運搬車。1500L～7000Lまで積載可能。ボンベ固定用クサリは上下2ヶ所標準装備。

浮遊しているアルミ風船・フィルム風船にガスを補充する際に使用します。

各種のガスを実験用に小型ボンベに圧縮して入れてあり、実験のスピード化に役立ちます。 ガスはスプレー式で、一定量を連続して噴出させたい時は、別売のガス量調節器を使用します。

ガス、気体の漏れを発泡現象で検出する検査液です。検出力は、JIS Z 2329に合致し優れています。 水溶性以外の大半のガス漏れを検出できます。

実験用や分析計測用の高純度ガスです。容器及び弁は高圧ガス取締法にもとづいています。

半導体などの基礎研究や燃焼実験に最適の量です。 小型ボンベに気体を圧縮・充填してあり、実験の効率アップに役立ちます。

Bluetooth通信によるメール通知機能。専用アプリにより濃度データのトレンドグラフや警報時に作業員の位置情報がわかります。耐衝撃性が大幅に向上し、現場作業でも安心。 カーボンニュートラル・脱炭素関係の水素・アンモニアも検知できます。

ヘリウムを測定。 高濃度ガス検知器XP-3140は、ガス濃度がわかりやすいデジタル表示とガス濃度レベルがわかりやすいアナログバー表示を採用し、測定濃度をわかりやすくお知らせします。

液材を入れて、圧縮エアーを注入するだけで簡単に使用可能です。 ノズルはたたんだ状態でも伸ばした状態でも使用可能な2Way方式です。100mmのロングノズルは狭い場所や奥まったところで便利です。 液材詰替タイプのため従来のスプレー缶と異なり廃缶が出ずゴミの削減になります。 繰り替え使用可能なので廃缶ゴミが大幅に減少。 圧縮エア入口はタイヤの米式バルブのため、自動車やオートバイ等のタイヤの空気充填用チャックが利用可能です。 また圧縮エアーはエアーコンプレッサーはもちろん空気入れでも簡単に充填できるので大変便利です。 原液タイプのパーツクリーナーを容器に入れ、エアーを充填するだけでスプレーとして使用できます。

発泡漏れ試験法JISZ2329に合格しています。 スプレーするだけの簡単な操作でガスもれを発見。 わずかなもれでも確実に泡が発生します。 検知液は不燃性で、塗装、ゴム、プラスチック表面にも影響を与えません。

Bluetooth通信によるメール通知機能。専用アプリにより濃度データのトレンドグラフや警報時に作業員の位置情報がわかります。耐衝撃性が大幅に向上し、現場作業でも安心

ヘリウムの中では、空気中より音の通る速度が速くなり、声が高く聞こえるようになります。この原理を利用しガスと一緒に話した声は変化して聞こえるようになります。(声帯の変化ではなく、ガスを吐き出す間の一時的なものです) ※対象年齢16歳以上

排気速度が大きく、利便性にも優れたリークディテクタです。漏れ検査のあらゆる場面で、活躍します。わずかな漏れも見逃さない5L/secのヘリウム排気速度で、ワイヤレスコントローラで40m先からも操作可能です。本体から独立したタブレット型コントローラの採用しています。真空法はヘリウムの他に水素の検出が可能です。

回折・干渉などのさまざまな物理実験に利用できます。 レーザー媒質にHe-Ne混合気体を封入したガスレーザーです。 狭いスペクトル線幅です。 電源とレーザーが一体なため、簡単に使用できます。 低出力レーザーのため、ガイド光や実験用光源に最適です。 お手持ちの顕微鏡用対物レンズにて光線をエキスパンドするためのアダプタを備えています。

フルオロカーボンガス R410Aの再生品です。 サイフォン管付きですので逆さにせず、そのままでご使用できます。 箱から出さずにそのまま使用できます。 軽量で作業が容易。 HFC-32、125の2種混合冷媒。対HCFC-22比理論値COP=89%。圧力がHCFC-22の約1.6倍と高い擬似共沸ではあるが、液充填が必要です。 塩素を含まず、水素を含んでおり、オゾン層破壊がない新代替物質。

He、H2、N2、Air、O2、CO2、5%CH4/Ar、Arの8種類のガスで校正されています。直読ができ、キャリアーガスによる換算は必要ありません。

配管のガスもれをチェックしたい所にスプレーするだけで簡単に漏洩箇所が発見出来るスプレーです。 J IS Z2329-1991「発泡漏れ試験方法」適合商品です。 対象物に配慮し、特にイオウ、ハロゲンの含有量は少な くなっています。

多種類の原材料を、長年の蓄積した情報と品質工学などを使い、適切な割合で配合し、車種・用途・市場状況などの要求に合わせ、効き・寿命・鳴き・振動・相手材の攻撃性等の性能を追求した摩擦材の開発を行っています。また、摩擦材に使用する原材料は、ELV、REACHなどの環境規制に対応した、環境負荷の少ないものを選定しています。

クリーン洗浄し、組み立てており、分析用標準ガス・理化学機器用圧力調整器です。

ヘリウムガス(HE)用のマスフローコントローラです。内蔵ソレノイドアクチュエータによる流量制御を行います。専用リードアウトユニットCR-400Bを接続することで流量の設定・表示を行うとともに、AC100Vによる駆動が可能です。

ヘリウムガス(HE)用精密ニードルバルブです。流量を精密かつ容易に制御できる様に設計されています。調節ネジ部の回転運動をニードル部では直進運動にかえる構造になっており、ネジのギャップや振動がニードル部に影響する事なく、安定したなめらかな流量制御が可能です。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2の精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素や水分を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、メタン、クリーンドライエア CDA) ら水分を低 pb ベルまで除去します。 乾燥ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、クリーンドライエア CDA) ら炭化水素(ブタンより重い)を数ppbレベルまで除去します。炭化水素を含まないガスを必要とするほとんどのアプリケーションに推奨します。

ZPure(TM)M (超大容量ガス精製フィルター)、ZPure(TM)M ガス精製フィルターは3，800 ccの大容量で除去容量が大きく、かつ大流量で使用できます。形状は円筒形で316ステンレス製、接続部分は1/2"VCRと1/4"コンプレッションフィッティング接続を採用しています。ZPure(TM)M フィルターには、炭化水素、水分、酸素/水分フィルターおよびPolyGas IIの除去タイプを用意しています。不活性ガス、He、Ar、N2、H2 をより大容量で精製することができます。汚染物質を含まない高純度ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。とくに半導体用途で多く採用されています。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(R) ガスフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ZPure(R) Glass (インジケータ搭載ガラス製ガス精製フィルター)、外側ポリカーボネート、内側ガラスの二重構造により、ガラス破損時にガスを隔離、酸素と水に関する高感度の視覚的インジケータを搭載、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、フッ素ゴムシールを採用、ヘリウムガスによるリークチェック済み、高感度のインジケータにより交換時期がわかります。推奨アプリケーション：不活性ガス、He、Ar、N2、H2 の精製に使用でき、水を含まない超高純度ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。水分インジケータは 1 ppm でブレークスルーを示します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(R) ガスフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ZPure(R) Glass (インジケータ搭載ガラス製ガス精製フィルター)、外側ポリカーボネート、内側ガラスの二重構造により、ガラス破損時にガスを隔離、酸素と水に関する高感度の視覚的インジケータを搭載、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、フッ素ゴムシールを採用、ヘリウムガスによるリークチェック済み、高感度のインジケータにより交換時期がわかります。推奨アプリケーション：不活性ガス、He、Ar、N2、H2 の精製に使用でき、GC および GC/MS キャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ( ブタンより重い ) を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

DCブラシレスモータの採用で、負荷に応じた最適な回転速度で運転されることから、大気圧からの真空排気が可能です。 マグネットカップリングの構造により、ポンプ外部への油漏れなしです。 ポンプ内部のシールは、非接触シールを採用し、メカニカルロスを大幅に低減しました。 ドライバーボックス内部の電源切換で、100V系及び200V系で運転が可能です。

マスフローメータとリードアウトユニットを内蔵した小型ハンディ質量流量測定ユニットです。タッチパネル式で簡単操作可能です。ご要望に応じてAIR以外の流体(N2、H2、He、Ar、O2、CO2他各種ガス)用の製作も可能です。ご相談ください。

F.S.1SCCMの微小流量に対応したハイグレードマスフローメータとリードアウトユニットを内蔵した小型ハンディ質量流量測定ユニットです。タッチパネル式で簡単操作可能です。ご要望に応じてAIR以外の流体(N2、H2、He、Ar、O2、CO2他各種ガス)用の製作も可能です。ご相談ください。

マスフローコントローラとリードアウトユニットを内蔵した小型ハンディ質量流量制御ユニットです。タッチパネル式でフルスケール設定、流量設定、バルブ開閉など簡単操作可能です。ご要望に応じてAIR以外の流体(N2、H2、He、Ar、O2、CO2他各種ガス)用の製作も可能です。ご相談ください。

レーザ媒質にHe-Ne混合気体を封入したガスレーザです。ガウス分布に近似した高品質な空間モードのレーザ光が出力されます。スペクトル線幅が狭く可干渉性に優れています。光源であるレーザ管と低消費電力の電源を一体にし、取り回しに優れたコンパクトなレーザです。JIS C6802 クラス2に分類される低出力レーザのため、ガイド光や実験用光源に適しています。

ガス容器(ボンベ)と集合装置を接続する機器です。

F.S.1SCCMの微小流量に対応したハイグレードマスフローコントローラとリードアウトユニットを内蔵した小型ハンディ質量流量制御ユニットです。タッチパネル式でフルスケール設定、流量設定、バルブ開閉など簡単操作可能です。ご要望に応じてAIR以外の流体(N2、H2、He、Ar、O2、CO2他各種ガス)用の製作も可能です。ご相談ください。

小型軽量な表示器付ローコストマスフローメータです。精密ニードルバルブと一体になっており、流量制御も可能です。瞬時流量表示、積算流量表示に対応します。流量信号の外部出力が可能です。流量監視用アラーム2点出力ございます。DC24V電源のみで駆動可能です(別売ACアダプタ：PSK-38DSⅡ)。ご要望に応じてAIR以外の流体(N2、H2、He、Ar、O2、CO2他、各種ガス)用の製作も可能です。ご相談ください。