1軸アクチュエータ SE4510B(A2) ピン用穴有

1軸アクチュエータ SE4510B(A2) ピン用穴有 黒田精工

ボールねじと直線案内機器を一体化し、複雑な精度調整が不要、取付工数の大幅な削減が可能。
直線運動部は、ボールねじ溝と同様にゴシックアーチを採用し、高精度の位置決め精度が可能。
U字形状のガイドレールの採用でコンパクトで高剛性を実現。
U字形状のガイドレールの中にスライドブロックを配置し、低断面構造とし省スペース化を実現。
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15225568 SE4510B-640W-A2NN-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 640 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225586 SE4510B-640W-A2NN-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 640 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225604 SE4510B-640W-A2NN-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225622 SE4510B-640W-A2NN-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225647 SE4510B-640W-A2NM-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 640 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225683 SE4510B-640W-A2NM-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225708 SE4510B-640W-A2NM-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225762 SE4510B-640W-A2NY-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225805 SE4510B-640W-A2NC-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 640 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225848 SE4510B-640W-A2NC-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225866 SE4510B-640W-A2NC-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225884 SE4510B-640W-A2NP-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 640 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225902 SE4510B-640W-A2NP-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 640 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225927 SE4510B-640W-A2NP-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15225945 SE4510B-640W-A2NP-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 640 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15241564 SE4510B-740W-A2NN-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15241582 SE4510B-740W-A2NN-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
270,500
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15241607 SE4510B-740W-A2NN-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
298,000
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15241625 SE4510B-740W-A2NN-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
299,500
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15241643 SE4510B-740W-A2NM-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
282,000
219,800
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15241668 SE4510B-740W-A2NM-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
283,500
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15241686 SE4510B-740W-A2NM-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
311,000
249,800
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15241704 SE4510B-740W-A2NM-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
312,500
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15241722 SE4510B-740W-A2NY-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
282,000
219,800
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15241747 SE4510B-740W-A2NY-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
283,500
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15241765 SE4510B-740W-A2NY-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
311,000
249,800
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15241783 SE4510B-740W-A2NY-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
312,500
249,800
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15241808 SE4510B-740W-A2NC-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
282,000
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15241826 SE4510B-740W-A2NC-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
283,500
219,800
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15241844 SE4510B-740W-A2NC-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
311,000
249,800
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15241862 SE4510B-740W-A2NC-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
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15241887 SE4510B-740W-A2NP-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
282,000
219,800
241,780 (税込)
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15241905 SE4510B-740W-A2NP-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 740 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
283,500
219,800
241,780 (税込)
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15241923 SE4510B-740W-A2NP-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
311,000
249,800
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15241948 SE4510B-740W-A2NP-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 740 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
312,500
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15257567 SE4510B-840W-A2NN-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 840 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
320,000
249,800
274,780 (税込)
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15257585 SE4510B-840W-A2NN-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 840 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
321,500
249,800
274,780 (税込)
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15257603 SE4510B-840W-A2NN-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 840 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
351,000
279,800
307,780 (税込)
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15257628 SE4510B-840W-A2NN-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 840 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
352,500
279,800
307,780 (税込)
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15257646 SE4510B-840W-A2NM-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 840 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
333,000
259,800
285,780 (税込)
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15257664 SE4510B-840W-A2NM-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 840 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
334,500
269,800
296,780 (税込)
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15257682 SE4510B-840W-A2NM-LN-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 840 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
364,000
289,800
318,780 (税込)
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15257707 SE4510B-840W-A2NM-LS-PS 防錆黒色被膜処理 A2 SE45 840 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
365,500
289,800
318,780 (税込)
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15257725 SE4510B-840W-A2NY-NN-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 840 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
333,000
259,800
285,780 (税込)
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15257743 SE4510B-840W-A2NY-NS-PS 標準仕様(黒染め) A2 SE45 840 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) なし W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10
334,500
269,800
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