1軸アクチュエータ SE4510D(A2) ピン用穴有

1軸アクチュエータ SE4510D(A2) ピン用穴有 黒田精工

ボールねじと直線案内機器を一体化し、複雑な精度調整が不要、取付工数の大幅な削減が可能。
直線運動部は、ボールねじ溝と同様にゴシックアーチを採用し、高精度の位置決め精度が可能。
U字形状のガイドレールの採用でコンパクトで高剛性を実現。
U字形状のガイドレールの中にスライドブロックを配置し、低断面構造とし省スペース化を実現。
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00263499 SE4510D-740W-A2NC-LS-PR - 防錆黒色被膜処理 - 740 C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263508 SE4510D-740W-A2NC-LS-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 740 C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263517 SE4510D-740W-A2NP-NN-PR - 標準仕様(黒染め) - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263526 SE4510D-740W-A2NP-NN-PSR - 標準仕様(黒染め) - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263535 SE4510D-740W-A2NP-NS-PR - 標準仕様(黒染め) - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263544 SE4510D-740W-A2NP-NS-PSR - 標準仕様(黒染め) - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263560 SE4510D-740W-A2NP-LN-PR - 防錆黒色被膜処理 - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263569 SE4510D-740W-A2NP-LN-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00263587 SE4510D-740W-A2NP-LS-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 740 P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279206 SE4510D-840W-A2NN-NN-PSR - 標準仕様(黒染め) - 840 なし - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279224 SE4510D-840W-A2NN-NS-PSR - 標準仕様(黒染め) - 840 なし - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279240 SE4510D-840W-A2NN-LN-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 なし - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279249 SE4510D-840W-A2NN-LN-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 なし - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279319 SE4510D-840W-A2NM-LN-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279328 SE4510D-840W-A2NM-LN-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279346 SE4510D-840W-A2NM-LS-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279355 SE4510D-840W-A2NY-NN-PR - 標準仕様(黒染め) - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279364 SE4510D-840W-A2NY-NN-PSR - 標準仕様(黒染め) - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279380 SE4510D-840W-A2NY-NS-PR - 標準仕様(黒染め) - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279398 SE4510D-840W-A2NY-LN-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279407 SE4510D-840W-A2NY-LN-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279416 SE4510D-840W-A2NY-LS-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279425 SE4510D-840W-A2NY-LS-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 Y(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279434 SE4510D-840W-A2NC-NN-PR - 標準仕様(黒染め) - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279450 SE4510D-840W-A2NC-NN-PSR - 標準仕様(黒染め) - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279459 SE4510D-840W-A2NC-NS-PR - 標準仕様(黒染め) - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279468 SE4510D-840W-A2NC-NS-PSR - 標準仕様(黒染め) - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279477 SE4510D-840W-A2NC-LN-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279486 SE4510D-840W-A2NC-LN-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279495 SE4510D-840W-A2NC-LS-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279504 SE4510D-840W-A2NC-LS-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279529 SE4510D-840W-A2NP-NN-PSR - 標準仕様(黒染め) - 840 P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279574 SE4510D-840W-A2NP-LS-PR - 防錆黒色被膜処理 - 840 P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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00279590 SE4510D-840W-A2NP-LS-PSR - 防錆黒色被膜処理 - 840 P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) - W(繰返し位置決め精度:±10μm) -
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