1軸アクチュエータ SE4520C(E3) ピン用穴有

1軸アクチュエータ SE4520C(E3) ピン用穴有 黒田精工

ボールねじと直線案内機器を一体化し、複雑な精度調整が不要、取付工数の大幅な削減が可能。
直線運動部は、ボールねじ溝と同様にゴシックアーチを採用し、高精度の位置決め精度が可能。
U字形状のガイドレールの採用でコンパクトで高剛性を実現。
U字形状のガイドレールの中にスライドブロックを配置し、低断面構造とし省スペース化を実現。
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87529874 SE4520C-540W-E3NM-NS-PR 540 M(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87529883 SE4520C-540W-E3NM-NS-PSR 540 M(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87529899 SE4520C-540W-E3NM-LN-PR 540 M(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87529926 SE4520C-540W-E3NM-LS-PSR 540 M(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87529935 SE4520C-540W-E3NY-NN-PR 540 Y(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87529969 SE4520C-540W-E3NY-NS-PSR 540 Y(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87529978 SE4520C-540W-E3NY-LN-PR 540 Y(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87529996 SE4520C-540W-E3NY-LS-PR 540 Y(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87530075 SE4520C-540W-E3NC-LS-PR 540 C(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87530084 SE4520C-540W-E3NC-LS-PSR 540 C(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87530093 SE4520C-540W-E3NP-NN-PR 540 P(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87530118 SE4520C-540W-E3NP-NS-PR 540 P(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87530127 SE4520C-540W-E3NP-NS-PSR 540 P(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87530136 SE4520C-540W-E3NP-LN-PR 540 P(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87530154 SE4520C-540W-E3NP-LS-PR 540 P(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87530163 SE4520C-540W-E3NP-LS-PSR 540 P(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87545773 SE4520C-640W-E3NN-NN-PR 640 なし 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87545789 SE4520C-640W-E3NN-NN-PSR 640 なし 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
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87545798 SE4520C-640W-E3NN-NS-PR 640 なし 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
262,000
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87545807 SE4520C-640W-E3NN-NS-PSR 640 なし 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
267,000
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87545816 SE4520C-640W-E3NN-LN-PR 640 なし 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
287,000
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87545825 SE4520C-640W-E3NN-LN-PSR 640 なし 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
292,000
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87545834 SE4520C-640W-E3NN-LS-PR 640 なし 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
288,000
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87545843 SE4520C-640W-E3NN-LS-PSR 640 なし 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
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87545859 SE4520C-640W-E3NM-NN-PR 640 M(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
273,000
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87545868 SE4520C-640W-E3NM-NN-PSR 640 M(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
278,000
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87545877 SE4520C-640W-E3NM-NS-PR 640 M(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
274,000
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87545886 SE4520C-640W-E3NM-NS-PSR 640 M(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
279,000
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87545895 SE4520C-640W-E3NM-LN-PR 640 M(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
299,000
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87545904 SE4520C-640W-E3NM-LN-PSR 640 M(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
304,000
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87545913 SE4520C-640W-E3NM-LS-PR 640 M(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
300,000
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87545929 SE4520C-640W-E3NM-LS-PSR 640 M(フォトマイクロセンサ) 防錆黒色被膜処理 W(繰返し位置決め精度:±10μm) 低発塵グリース(クロダSグリース)
305,000
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87545938 SE4520C-640W-E3NY-NN-PR 640 Y(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
273,000
219,800
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87545947 SE4520C-640W-E3NY-NN-PSR 640 Y(フォトマイクロセンサ) 標準仕様(黒染め) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 標準グリース
278,000
219,800
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274,000
219,800
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