X線・光・中性子散乱の原理と応用

本書のメインテーマは「X線・光・中性子の弾性散乱現象」を利用したソフトマター物質の内部構造の解析である。X線・光・中性子の弾性散乱現象の物理とその基礎を示し，実際の応用例について幅広く解説した，散乱研究の第一人者による待望の書である。 「第I部 基礎編」では，X線・光・中性子の弾性散乱における共通部分，相違部分の総合的解説を行った。 「第II部 X線・中性子散乱」では，X線(光子)の自由電子による散乱および中性子(物質波)の原子核による散乱について論じた。これらの散乱は，いずれも「光学的に」等方的な散乱である。 「第III部 光散乱」では，光の束縛電子による散乱について解説した。光散乱は，「光学的に」異方的な散乱(偏光解消成分)と等方的な散乱(偏光成分)からなる。 本書では散乱ベクトルとは何か，散乱強度分布からどのようにして内部構造が解析できるのか，といった基本的な事柄から懇切ていねいに解説した。各章末にあるノートでは式の導出などについてもわかりやすく示した。また，本文に掲載できなかった章，節，項またはその一部は付録としてweb上に公開した． 散乱法は，物理学，化学，生物学，材料科学・工学などのさまざまな科学分野，およびこれらの学際分野での物質の構造探究に用いられており，現在もさまざまな対象に広がりを見せている。本書を読んで，散乱法による構造解析を正しく行うと同時に，メゾスケールでの構造研究へと展開していっていただきたい。