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表面処理に黒アルマイト処理を施した、アルミプレートです。防振台や光学実験台の上に置き、光学系の各ユニットを省スペースに配置・構築できます。

ステンレス製の支柱(ロッド)です。

粗微動切替えクランプを緩めることで全周360°の粗動回転が、粗微動切替えクランプを締めればマイクロメータヘッドおよびネジ式により、その位置から±5°の微調整ができます。 ステージ中央に貫通穴があいているため、透過用としてご利用いただけます。

ロッド付ホルダーの高さ・回転粗微動用に使用します。穴形状を1線と1点から2線と1点保持に変更したことで、従来製品に比べ安定した保持が可能となりました。

色々なサイズのネジリングに対し、1本で対応できるネジリング専用のスパナーです。光学素子やネジリングを傷つけることなくしっかり素子をホルダーに固定できます。

テコの原理を利用して水平方向のマイクロメーター操作を垂直移動に伝達するZ軸ステージです。

ポストシステム用の取付アダプタです。

クランプハンドルを緩めることにより、ホールド部をフレキシブルに動かし任意の位置にアクセサリー等を固定することができます。固定はカム式構造のため、クランプハンドルにより全体の関節を一度に固定・解除できます。

ハンドルを回転させれば、滑らかで平行な上下移動ができます。 構造はパンタグラフ方式ですが、独特の工夫と高い工作精度・巧妙な調整技術により高平行度を実現しました。

光学系で使用するレンズをしっかりと固定するレンズホルダーです。

粗動360°の回転と微動(マイクロメーターヘッド又はファインピッチスクリューからの選択)が可能なすり合わせ式の透過用θ軸(回転)粗微動ステージです。 粗動360°の回転と微動(マイクロメータヘッド又はファインピッチスクリューからの選択)が可能なすり合わせ式の透過用θ軸(回転)粗微動ステージです。粗動はステージ上面を直接回転させ、微動は粗動部分をクランプし、マイクロメータヘッド又はファインピッチスクリュー(±3～5°)で行います。ステージ本体にシンチュウを採用し、鉄製のクロスローラを使用することで高精度・高剛性を実現します。ステージ中央に貫通穴があいているタイプは、透過用としてご利用いただけます。品番末尾にFPがついている製品は、ファインピッチスクリューを使用しています。一般的なマイクロメータヘッドではありませんので、ご注意ください。ネジピッチ0.25mmで操作する際には、六角レンチまたは別売のツマミ付六角レンチ(KCL)が必要となります。

ホルダーやステージなどの光軸の高さ調整を行うための□40mmスペーサーです。予め設定していた光軸に対し、ステージを組合せた時の高さ(厚み)が不足している場合等に使用します。

球面凸レンズ(SLB-P)より表面品質を1ランク下げた製品です。照明もしくは観察用途など、高い表面品質が要求されない光学系に使用できます。表面品質以外の仕様は球面凸レンズ(SLB-P)とほとんど変わりません。レーザを使った高精度な実験に使用する場合以外はこちらのレンズをお勧めいたします。球面収差の少ない平凸レンズです。ノーコート品以外に可視域・近赤外域・赤外域の3種類の反射防止膜付きレンズのご用意しています。※球面平凸レンズには色収差があり、波長によって焦点距離が変わってきます。※平凸レンズには光を入れる向きがあります。※必ず凸面側から平行光を入射させてください。※逆にすると球面収差が大きくなり、集光スポットが大きくなったり、像がボケて見えることがあります。※ノーコート品はレンズの表面と裏面の反射による損失で、透過率が90%程度になります。

光学素子に付着した油脂やミストなどの汚れを取り除く時に使用する溶剤です。揮発性が高いので、拭取り後に拭きムラが残りにくいクリーナーです。レンズペーパーに軽く浸み込ませてご使用ください。保護コートつきのミラーや誘電体多層膜のミラー、レンズなどに使用することができます。SLC-300は手押しポンプ式で適量づつクリーナーを出すことができます。SLC2-300はワンタッチキャップで密閉性にすぐれています。※本製品は第四種・第一石油類危険等級Ⅱに指定されています。※本製品は、航空機内への持込や航空機輸送が禁止されています。※金ミラーや保護コートなしのアルミミラーには使用しないでください。※ミラー表面に拭き傷が残ります。

ステージ用の取付穴変換スペーサーです。

ガイドにベアリングを採用し、送り機構にはウォームギアを使用したステッピングモータ駆動の回転ステージです。

ミラーホルダーやレンズホルダーに付属されている部品です。

任意の外径サイズの円形レンズを固定するホルダーです。適応する外径のレンズホルダーがない場合やレンズを特定しないで光学系を作るときなどに使います。

アリ溝ガイド・ネジ送り調整方式で、装置組込用途に適したブロックステージです。

ロッド付きホルダーの高さ・回転粗調整用に使用します。ホルダーのロッドを挿入し、本体側面のクランプネジと上部にある中間リングのクランプネジで固定します。

ホルダーやステージなどの光軸の高さ調整を行うための□40mmスペーサーです。予め設定していた光軸に対し、ステージを組合せた時の高さ(厚み)が不足している場合等に使用します。

指定の波長より短波長をカットし、長波長を透過させるロングパスフィルターです。観測の邪魔になる波長域(例えば紫外域)をカットする場合などに使います。

M6タップをM4に変換するためのアダプターナットです。簡易ナット回し(主要素材：ステンレス、表面処理：無)は付属されています。※平面に取り付けると、1mm(Φ8部分)突出します。※発送は郵送に限らせていただきます。

光学実験でレーザの迷光の遮光板として、また、干渉計やシュリーレンのスクリーンとして使用できます。

突起部を省き小スペース型で動作頻度が少なく微細な調整用途に適した、テーブル面が水平な調整用XYZ軸ステージです。

メーカー独自の調整技術により極めて高い平行度を実現したZ軸精密ステージです。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れたXY軸直動ステージです。

Z軸・XZ軸・XYZ軸ステージの垂直タイプのステージ面に取り付け、L型ブラケットの上面に他のアクセサリーを取り付けます。

ロッドやポールを挿入して、直交に接続させるためのクロスクランプです。

ステンレス製の支柱で片端にM16P1のオネジが付いたポールです。クロスクランプや回転式クロスクランプと接続し、使用します。

繊維質が柔らかい高純度のパルプで作られた紙です。レンズクリーナーを浸み込ませて、光学素子の汚れを拭き取ります。

基板の表・裏面に僅かなウェッジをつけることで、表・裏面による反射ビームを分離させることができます。ビームサンプラーや干渉計の参照原器として使用できます。

単純な形状で、球面収差を少し抑えたレーザ実験用のレンズです。レーザ光をディテクターに集光させたり、単色光源を用いた結像の実験などに使用できます。

可視光を減光するための丸型のフィルターです。吸収タイプなので、反射による迷光が小さく、しかも、減光によって透過光の波長特性が大きく変わることはありません。透過率が細かく分かれているので、色々な光量に減光できます。さらに、複数枚のフィルターを組合わせることで、微妙な光量調整が可能です。吸収型固定式NDフィルターを光源の近くに置くと、急激な温度変化でフィルターが割れることがあります。フィルターに熱強化処理を行なうと温度が上がってもフィルターが割れにくくなります。フィルターを熱強化した場合寸法が大きくなり、公差の範囲を超える可能性があります。※高出力レーザには使用できません。※使用すると破損する恐れがあります。※高出力レーザには、反射型NDフィルター(FND)をご使用ください。※透過率特性を優先させているため、フィルターの厚さを変えることで透過率の性能が満たすように調整されています。※このため、フィルターごとに厚さが異なってきます(6mm以下)。※厚さを一定にする必要がある場合は、枠付きフィルター(MAN)をご使用ください。※透過率波長特性は製造ロットによって異なってきます。※特に適応波長の外側の波長特性は製造ロットによって大きく異なる場合があります。※もし、指定波長範囲より広い範囲で使用される場合は、反射型フィルター(FND)をご使用ください。※NDフィルターには反射防止コートが施されていないので、4%程度の反射があります。