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CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) PolyGas II
S.G.E¥22,899~税込¥25,189~1本24日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) PolyGas I
S.G.E¥24,199~税込¥26,619~1本17日以内出荷から43日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) O2/H2O
S.G.E¥26,299~税込¥28,929~1本当日出荷から33日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2の精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素や水分を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) HC
S.G.E¥17,799~税込¥19,579~1本24日以内出荷から33日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、クリーンドライエア CDA) ら炭化水素(ブタンより重い)を数ppbレベルまで除去します。炭化水素を含まないガスを必要とするほとんどのアプリケーションに推奨します。
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) H2O
S.G.E¥17,799~税込¥19,579~1本24日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、メタン、クリーンドライエア CDA) ら水分を低 pb ベルまで除去します。 乾燥ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。






























