アズワンのウェハー/特殊ケース

本体・フタともに帯電防止タイプです。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

帯電防止剤は練り込みタイプですので持続性に優れています。 フタ付き(EY12・ER4Tを除く)

ケース付きですので、一時的な保管や移動時に便利で、試料を安心して保管できます。 ケースは半透明で内部の観察も容易です。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

特殊帯電防止剤をコーティングしてあり、静電気の心配はありません。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

超電導用基板などとして使用されています。

汎用的な成膜用基板として使用されています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

低汚染を追求した材質で製造されています。トレー同士またはトレーとカバーの積み重ねが可能です。パッキン付きですので、気密性に優れています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

テープシールで気密性を確保します。

様々なチップ部分の工程内用、出荷用ケースに適しています。

加熱工程、試験工程用キャリアに適しています。ポケット部は金属エッチングプロセスの為、高精度です。