いけうちの流体ノズル

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。高圧洗浄用に設計した1/8サイズ。

低い液圧にもかかわらず広角の扇形噴霧を発生させます。

最も強い打力の棒流を発生させる直進ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の広噴角円錐ノズルです。 噴角が120°のため、他のどのノズルよりも広い噴霧面積をカバーできます。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。旋回子を使用せず、衝突流入により液の微粒化を図るノズルのため、異物通過径がきわめて大きいです。液の流入方向に対し、直角に噴霧します。

一流体ノズルの中で最高の微粒化性能を誇る環境スプレーパターンの極小墳量空円錐ノズル。 微霧を発生できる。 施流失空

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

単孔の直進エアーを噴射するので、直進性が高く、エアーブロー効果が高い。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。単位面積当たりの打力が均一。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生させます。 ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全巾において均等になります。

強い打力の棒流を発生させる直進ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

低液圧力で広角の扇形噴霧を発生。目詰まりしにくい。ノズル軸心に対し75°の仰角で噴霧。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。異物通過径が大きく、目詰まりしにくい細霧発生ノズル。部品点数が少なくコンパクトな設計。ワーラーが取外し可能、メンテナンスが容易。

液中で噴射した際ノズル内が負圧になることで周囲の液体を吸い込み、 供給液量の3～4倍の液量を吐出するノズル。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。簡単着脱でメンテナンス時間を短縮。ツバ付きローレット形状で着脱時に力を入れやすい。取外し後にチップやパッキンが脱落しない構造。

平均粒子径が100μm以下の微霧を発生する2流体扇形ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

ノズルを装置の支柱(金属棒)に取り付けて固定するためのホルダー。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。細霧を発生可能。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

小噴量の充円錐ノズル。

平均粒子径が30ミクロン以下(※1)の”微霧”を発生する2流体扇形ノズル。液供給は加圧装置が不要のサクションタイプ扇形の全域にわたり均等な流量分布。※1 レーザードップラー法による測定値。

噴射幅24mmの小型エアーノズル。

平均粒子径が50μm以上の細霧を発生する2流体扇形ノズル。

強い打力の棒流を発生させる直進ノズル。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。