実験研究用ホットプレート

温度設定がデジタル入力(10℃単位)ですので細かい温度設定が可能です。 セラミックガラス製プレートのため耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度550℃(CHP-400DNは350℃)までの高温加熱用途にご使用いただけます。 新アルゴリズムによるPID温度制御により、プレート温度制御が向上しました。

マイコン式PID制御を採用し、高精度な温度コントロールが可能です。 表示部には視認性に優れた液晶画面を採用しています。 4種類のタイマー機能(ON・OFF・ON/OFF・SET)を標準装備し、プログラム機能は最大8ステップまでの温度・時間の入力が可能です。 データ記録通信のための専用ソフト(CDROM)・通信ケーブル(オプション)により、容易にパソコンでデータを管理する事が可能です。 外部温度センサー(オプション)の使用で直接試料温度をコントロールする事が可能です。 アラーム信号出力を標準装備し、異常時に他機器の停止や予備システムの起動を行う事が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度55℃以下になるまで点灯)。 安全装置は2つの独立した回路からなるダブルロック機構を採用しています。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

新アルゴリズムによるPID制御により、プレート温度制御が向上しました。天板が高温になると警告ランプが点灯します。

セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度550℃(CHP-400AFは350℃)までの高温加熱用途に使用できます。 天板が高温になると警告ランプが点灯します。

ダイヤル調節式のホットプレートです。プレートはセラミックコーティングされているため、耐熱性・耐薬品性に優れています。

高精度デジタル温度指示調節器付き、ステージが広くステンレス製で、背の低い安定形です。持運びも楽にできます。

マイコン式比例制御方式で、安定した温度制御が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度が55℃以下になるまで点灯)。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

5℃～105℃の広い範囲で精度の高い温度制御が可能です。マグネティックスターラーの上に置くだけで、冷却・加熱が行えるスターラーとして使用できるようになります。

大好評のセラミックホットプレートに枠無しプレートタイプがラインナップ追加です。 デジタル仕様でボタン入力(10℃単位)で温度設定が可能です。 セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度500℃までの高温加熱用途に使用できます。 天板が高温になると警告ランプが点灯します。 天板枠の無いセラミックホットプレートです。

大好評のセラミックホットプレートに枠無しプレートタイプがラインナップ追加です。デジタル仕様でボタン入力(10℃単位)で温度設定が可能です。セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。最高温度550℃までの高温加熱用途に使用できます。天板が高温になると警告ランプが点灯します

真空炉・雰囲気炉を使用せずに、通常の電気炉で無酸化・無脱炭に近い熱処理を行うことが可能です。密閉した後、そのまま加熱及び冷却することにより光輝熱処理が可能です。仕上工程の省力化に優れています。

デジタル温度調節器搭載(PID制御)で天板を一定温度に保つことができます。卓上での簡易冷却・保冷

デジタル表示・設定。プレート温度の均一性に優れています。プレート材質はアルミニウム・硬質アルマイト仕上げ。安全装置として温度ヒューズ、自己診断機能(センサ異常・温度異常・内部メモリ異常)を備えています。

アルミプレート表面をセラミックコーティングし、耐久性が優れています。安全装置として過電流ブレーカー付。

セラミック製天板により耐久性・耐熱性・耐薬品性に優れています。最高温度550℃までの高耐熱タイプです。天板が50℃以上で警告ランプが点灯します。

高温シーズヒーターとデジタル指示温度調節計(PID)の採用により、精度の高い温度制御を行えるホットプレートです。

耐薬品性に優れたセラミック製天板を採用しており正確で安全な加熱と温度制御ができます。高温お知らせ機能付で点滅ライトで天板の温度状態をお知らせする安全設計。またエラーコードも表示いたします。天板温度が550℃を超えると自動で電源を切ります。コントロールパネルの位置を前面の高位置に配置し、もしもの時の試料の浸入を防止できるようにデザインされています。

加熱板・ヒーター・熱電対温度センサーから構成されたシンプルなホットプレートです。

温度分布幅4℃(200℃設定時)で、高精度な温度コントロールが可能です。 やけど防止表示機能付きです。 最高到達温度430℃まで約30分で高速昇温します。

・簡単な組み立てでペルチェの冷却効果をお試しいただけます。・ペルチェの実験用としてご活用いただけます。

プレートにはセラミックコーティングを施したアルミを採用しており、耐熱性・耐久性に優れています。サンドバスとしても使用できます。

熱伝導、温度分布の良いアルミ天板のホットプレートです。温度の安定が早く、極めて均一な温度を維持します。

温度による影響が大きい酵素反応やELISAなどの実験に適しています。特に、ウェル間の温度均一性が求められる実験では非常に効果的です。正確な温度管理を必要とする放射性物質などの細胞内取り込み実験にもご使用いただけます。熱伝導率が高いアルミプレートをマルチウェルプレート底面にセットすることで、ウェル間の温度を均一にすることができま

最薄・最小ホットプレート最高温度150℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、高温800℃で高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

プレート表面をセラミックコーティングしている為、耐久性に優れています。

真空炉・雰囲気炉を使用せずに、通常の電気炉で無酸化・無脱炭に近い熱処理を行うことが可能です。密閉した後、そのまま加熱及び冷却することにより光輝熱処理が可能です。仕上工程の省力化に優れています。

デジタル温度調節器搭載(PID制御)で天板を一定温度に保つことができます。冷却・加温の両方ができ、タイマー機能付きです。卓上での簡易冷却・保冷

四隅のない円筒状なので、ワークへの加熱がむらなく行えます。ワークの出し入れが行いやすい上蓋式設計です。設定温度とタイマーをセットするだけの簡易操作で、1℃/1分での設定が可能です。

平面プレートヒーターを発熱源に採用した大面積均一温度分布タイプです。3パターンのタイマー設定が可能です。ヒーター・温調器分離タイプで、耐久性に優れています。