3ページ目: ウェハー/特殊ケース

トレー同士またはトレーとカバーの積み重ねが可能で、トレーは互いに固定して積み重ねることもできます。 (品番が9で始まるもの、4で始まるものそれぞれでのみ可能)

基板を10mm以下の極小サイズにカットする場合に便利なスライドホルダーです。マグネット基板ガイドで両側から挟んで使用します。

平坦な劈開面を利用してSTM (走査トンネル顕微鏡) 、AFM (原子間力顕微鏡)用の試料として使われています。メンディングテープなど押し当て引きはがすとMicaのように薄く剥離し、新鮮な表面を出すことができます。両面劈開のため、表裏どちらの面からでも劈開できます。

装置テスト用(条件出し評価、搬送評価など)

装置テスト用(条件出し評価、搬送評価など)

装置テスト用(条件出し評価、搬送評価など)

ウエハーケース梱包の6インチシリコンウエハーです。P型、片面ミラー、オリフラ方位<110>、ダストフリー品です。

ウエハーケース梱包の8インチシリコンウエハーです。P型、片面ミラー、ノッチ(方位)不問、ダストフリー品です。

ウエハーケース梱包の12インチシリコンウエハーです。P型、両面ミラー、ノッチ<110>、面方位(100)、ダストフリー品です。標準納期は1～2カ月となります。

ウエハーケース梱包の12インチシリコンウエハーです。P型、両面ミラー、ノッチ(方位)不問、面方位(100)、ダストフリー品です。標準納期は1～2カ月となります。

ウエハーケース梱包の12インチシリコンウエハーです。P型、両面ミラー、ノッチ不問、面方位不問、ダストフリー品です。

進化を続ける半導体産業の基盤であるウェハをクリーンかつ安全に輸送する容器です。有機無機の汚染やパーティクルの発生がきわめて少なく、振動・衝撃にも強いです。サンプルキープ用としても活躍します。

ウェハー収納時のスペーサーとして使用します。

平坦な劈開面を利用してSTM (走査トンネル顕微鏡) 、AFM (原子間力顕微鏡)用の試料として使われています。メンディングテープなど押し当て引きはがすとMicaのように薄く剥離し、新鮮な表面を出すことができます。両面劈開のため、表裏どちらの面からでも劈開できます。

Corstatシリーズのコンポーネントボックスにより、静電気に弱い機器を簡単かつ安全に保管して輸送することができます。Corstat導電性コーティングによりファラデーケージ保護と、静電防止フォームによるESD安全クッション性を実現 幅広いサイズのパックを用意

Corstatシリーズのコンポーネントボックスにより、静電気に弱い機器を簡単かつ安全に保管して輸送することができます。Corstat導電性コーティングによりファラデーケージ保護と、静電防止フォームによるESD安全クッション性を実現 幅広いサイズのパックを用意

ESD S20.20に対応、EN 61340-5-1 ESD管理プログラムに適合. 導電性収納容器. 1～6のサイズが用意されています。このRS導電性容器シリーズは、保管に関するニーズに対する柔軟なソリューションになります。 これらの容器は、帯電防止のカーボン導電性粒子 / 繊維を使用して設計・製造されています。 このプロセスによって、静電気に弱い部品を破損させる可能性が低い低帯電(帯電防止)容器を実現します。特長と利点: . EPA内の小型部品の収納に最適 . スタッキング可能、柔軟性の向上 . 省スペース . ルーバーパネルに簡単に取り付け、又は接地面に自立可能 . インデックスカード付属 . 衛生的で清潔で滑らかな内面によってグリスや埃の堆積から保護

汎用的な成膜用基板として使用されています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

帯電防止型、高温用キャリアです。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。