2ページ目: ウェハー/特殊ケース

ウェハー収納時のクッションとして使用します。帯電防止タイプです。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

海外製造のシリコンウエハーです。製造年月は不問となります。

スプリングでウェハーを固定します。

低汚染を追求した材質で製造されています。トレー同士またはトレーとカバーの積み重ねが可能です。パッキン付きですので、気密性に優れています。

加熱工程、試験工程用キャリアに適しています。ポケット部は金属エッチングプロセスの為、高精度です。

頂部2本のバーを上下より2～3本の指先でつまみ、力を加えて押せば両脚が開きます。両脚端のバーをキャリアの溝にはめればハンドルは装着されます。

超電導用基板などとして使用されています。

コインロール梱包の12インチシリコンウエハーです。間に紙を挟んでプラスチック円筒ケースに収納して出荷します。(※プラスチック円筒ケースが供給難のため、ラップ巻きとなる場合があります。数枚レベルの出荷の際には、さらにプチプチで巻いて保護致します。)両面ミラー、パーティクル不問品です。

進化を続ける半導体産業の基盤であるウェハをクリーンかつ安全に輸送する容器です。有機無機の汚染やパーティクルの発生がきわめて少なく、振動・衝撃にも強いです。低有機汚染性能を追求したモデルです。

リング付きのウェハーの収納用です。帯電防止タイプです。

拡張グリップリング付きのウェハーを収納できます。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

装置テスト用(条件出し評価、搬送評価など)

装置テスト用(成膜・レジスト・フォトリソ・エッチングの条件出し評価、パーティクル測定、搬送評価など)

テープシールで気密性を確保します。

様々なチップ部分の工程内用、出荷用ケースに適しています。

トレー同士またはトレーとカバーの積み重ねが可能で、トレーは互いに固定して積み重ねることもできます(品番が9で始まるもの、4で始まるものそれぞれでのみ可能)。

スプリングでウェハーを固定します。

トレー同士またはトレーとカバーの積み重ねが可能で、トレーは互いに固定して積み重ねることもできます(品番が9で始まるもの、4で始まるものそれぞれでのみ可能)。

容器内部の伸縮膜により保管物がしっかり固定され、保管物同士の接触による傷や輸送中の破損を防ぎます。 突起状のものでも使用可能です。

圧電素子、表面弾性波素子用などの各種基板として使用されます。

取り出しやすく、積み重ねもできます。200mm以下のウェハータイプに適合します。