40ページ目: 実験関連品

ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定できます。付属の温度調節器で精密温度制御が可能です。

ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定できます。付属の温度調節器で精密温度制御が可能です。

回転することで発生する旋回流と下から吸い上げる吸入流が同時に発生して、液体の上下置換を伴う立体的な撹拌流が生まれます。容器の隅々まで液体が届き、希釈混合・成分均一、均熱が促進され安定した撹拌、時間短縮が可能です。突起物がなく遠心力で撹拌しせん断力が小さいため、せん断による液体の劣化(酸化)を防ぎ、壊さずに混ぜるような液体の撹拌に適しています。ヘッドとシャフトがイモネジ止めになっており、高さ調整やヘッドの向きの変更が可能です。

回転することで発生する旋回流と下から吸い上げる吸入流が同時に発生して、液体の上下置換を伴う立体的な撹拌流が生まれます。容器の隅々まで液体が届き、希釈混合・成分均一、均熱が促進され安定した撹拌、時間短縮が可能です。突起物がなく遠心力で撹拌しせん断力が小さいため、せん断による液体の劣化(酸化)を防ぎ、壊さずに混ぜるような液体の撹拌に適しています。ヘッド・シャフト一体型モールドでSUSの暴露部がありません。

冷間静水圧成形法(CIP)により作られた等方性黒鉛です。高い熱伝導度と低い熱膨張を持ち合わせているため、優れた耐熱衝撃性を有しています。

冷間静水圧成形法(CIP)により作られた等方性黒鉛です。高い熱伝導度と低い熱膨張を持ち合わせているため、優れた耐熱衝撃性を有しています。

ガラス面とホットプレート面の距離が3.5mmで高倍率での顕微鏡観察に対応します。ガラスチャンバー窒素ガス封入式のホットプレートです。ヒーターにはセラミックヒーターを採用し高速昇温が可能です。

最高温度400℃対応の真空ホットプレートチャンバーです。観察窓によりワークの状態が視認できます。金属、ウェハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での高速昇温加熱プロセスに適します。