実験研究用ホットプレート

温度設定がデジタル入力(10℃単位)ですので細かい温度設定が可能です。 セラミックガラス製プレートのため耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度550℃(CHP-400DNは350℃)までの高温加熱用途にご使用いただけます。 新アルゴリズムによるPID温度制御により、プレート温度制御が向上しました。

新アルゴリズムによるPID制御により、プレート温度制御が向上しました。天板が高温になると警告ランプが点灯します。

マイコン式PID制御を採用し、高精度な温度コントロールが可能です。 表示部には視認性に優れた液晶画面を採用しています。 4種類のタイマー機能(ON・OFF・ON/OFF・SET)を標準装備し、プログラム機能は最大8ステップまでの温度・時間の入力が可能です。 データ記録通信のための専用ソフト(CDROM)・通信ケーブル(オプション)により、容易にパソコンでデータを管理する事が可能です。 外部温度センサー(オプション)の使用で直接試料温度をコントロールする事が可能です。 アラーム信号出力を標準装備し、異常時に他機器の停止や予備システムの起動を行う事が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度55℃以下になるまで点灯)。 安全装置は2つの独立した回路からなるダブルロック機構を採用しています。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

ダイヤル調節式のホットプレートです。プレートはセラミックコーティングされているため、耐熱性・耐薬品性に優れています。

大好評のセラミックホットプレートに枠無しプレートタイプがラインナップ追加です。デジタル仕様でボタン入力(10℃単位)で温度設定が可能です。セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。最高温度550℃までの高温加熱用途に使用できます。天板が高温になると警告ランプが点灯します

セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度550℃(CHP-400AFは350℃)までの高温加熱用途に使用できます。 天板が高温になると警告ランプが点灯します。

アルミプレート表面をセラミックコーティングし、耐久性が優れています。安全装置として過電流ブレーカー付。

設定値と実測値がひと目でわかる2段デジタル表示式です。ペルチェ素子のPID制御により高精度の温度制御が可能です。タイマー付きです。天板が大きいため、大きい試料・サンプルの実験に適しています。冷却・加熱両方対応可能です。大きいプレートの冷却・加熱タイプ!

プレート表面をセラミックコーティングしている為、耐久性に優れています。

マイコン式比例制御方式で、安定した温度制御が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度が55℃以下になるまで点灯)。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。

耐薬品性に優れたセラミック製天板を採用しており正確で安全な加熱と温度制御ができます。高温お知らせ機能付で点滅ライトで天板の温度状態をお知らせする安全設計。またエラーコードも表示いたします。天板温度が550℃を超えると自動で電源を切ります。コントロールパネルの位置を前面の高位置に配置し、もしもの時の試料の浸入を防止できるようにデザインされています。

中温度専用で、温度精度は±0.1℃～±0.5℃以内に保てます。軽くて持ち運びが楽で、背の低い安定形です。

デジタル温度調節器搭載(PID制御)で天板を一定温度に保つことができます。冷却・加温の両方ができ、タイマー機能付きです。卓上での簡易冷却・保冷

デジタル表示・設定。プレート温度の均一性に優れています。プレート材質はアルミニウム・硬質アルマイト仕上げ。安全装置として温度ヒューズ、自己診断機能(センサ異常・温度異常・内部メモリ異常)を備えています。

セラミック製天板により耐久性・耐熱性・耐薬品性に優れています。最高温度550℃までの高耐熱タイプです。天板が50℃以上で警告ランプが点灯します。

中温度専用で温度分布精度が高いホットプレートです。 ●パラフィンの伸展に使用できます。 ●天板は耐薬品性に優れるステンレス製です。ステージはフラットで背が低く、作業が行いやすくなっています。

Point1：真空計と真空・充填スイッチ。▼キャッパー内部の圧力を確認しながら調整します。Point2：ガス導入口。▼流入量を絞るために調整バルブつきです。Point3：エアフィルター。▼ゴミの流入を防ぐためのフィルター付きです。Point4：パッキン。▼ボトルの肩や実験台など平らな面にあてて内部を密閉状態にします。試薬瓶や保管容器のガス置換が実現できます。真空引きにより、容器内の酸素、水分を徹底除去し、ピュアな状態でキャップ締めが可能です。外気に一切触れることなく蓋を閉めることができます。

陰圧に耐えられないプラスチック製容器にも使用可能な利便性が高い汎用モデルです。

マイクロプロセッサーによる閉ループ温度制御により加熱動作精度は±2℃です。

従来型(AB-TC1/-TC2)の下に広いベース部分を持つ二段構造で、プレートを載せたままのハンドリングが容易です。持ち手部分は指をかけやすい凹みとすべり止め効果がある波型加工になっています。二段構造になっているため、氷上冷却時の取り扱いにも便利です。従来型(AB-TC1/AB-TC2)に比べ、厚みが2倍になっており、温度保持性能が向上しました

温度による影響が大きい酵素反応やELISAなどの実験に適しています。特に、ウェル間の温度均一性が求められる実験では非常に効果的です。正確な温度管理を必要とする放射性物質などの細胞内取り込み実験にもご使用いただけます。熱伝導率が高いアルミプレートをマルチウェルプレート底面にセットすることで、ウェル間の温度を均一にすることができま

培地交換や薬剤添加の際、インキュベーターから取り出した細胞培養プレートを保温し、細胞へのダメージを防ぐ、熱安定性に優れた保温装置です。 導電性高分子の技術を加温機構に利用しており、熱安定性に優れています。 電源の使用の他、クリーンベンチ等、電源の確保が難しい場所には充電池を使用するなど、状況に合わせてお使いいただけます。 付属の充電池で、最大で連続2時間の動作が可能です。

ステンレス箔を袋状にしたもので、空気中での加熱による酸化、燃焼現象を防止する必要がある物の加熱処理に使用できます。

大好評のセラミックホットプレートに枠無しプレートタイプがラインナップ追加です。 セラミックガラス製プレートですので、耐熱性・耐薬品性に優れています。 最高温度500℃までの高温加熱用途に使用可能です。 天板が高温になると警告ランプが点灯します。

3つの作業モードがあり、作業状態に応じて最適な方法に調整できるIKA～Rオリジナル溶液温度コントローラー。 急速な加熱でもオーバーシュートしない完璧なPID制御。 ステンレス温度センサーH62を標準装備。 大型LCDディスプレイ。

最薄ホットプレート最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、300℃で薄型タイプ(高さ33mm)、ヒータ実装に特長があり、長時間稼働も可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

扱いやすいコンパクトなパーソナルタイプの汎用電気炉です。窒素ガス等不活性ガスで置換しながらの過熱が可能です。最高温度までの昇温時間が約20分と早い高性能タイプです。デジタル表示で温度設定・炉内温度の確認が可能です。不活性ガス雰囲気下での加熱が可能!

ヒンジタイプのフタで開け閉めが便利です。管理に便利なアルファベットと数字が印刷されています。

ドラフト内で使用される事を想定し、耐薬品性・耐酸性等を構成部品それぞれに考慮したホットプレートです。温度調節器が別体となっており、ドラフト内から引き出して使用できます。筐体はSUS316、天板にフッ素コーティング、内部配線はフッ素被覆、ヒーターにはインコロイ800を採用して雰囲気による浸食での劣化を低減します。浸食等による漏電リスク低減のために漏電ブレーカーを採用しています。耐薬品性を強化したホットプレートです。

常用最高1200℃・スピード昇温。炉心管・ガス置換ユニットを使用すると不活性環境下での加熱が可能です。炉心管は用途に応じて材質を選べます。設定温度に連動する自動過昇温防止機能に加え、完全独立式過昇防止機能、センサー異常を検知するバーンアウト機能も装備されています。ドアを開けた際にヒーターへの通電をカットする安全機能付きです。

プレートには熱伝導に良いアルミニウムを使用。密閉型ステンレス製パイプヒータを埋め込んでおり、長寿命。温度ヒューズ(76℃)、過熱防止機能付。クリーンルームでの使用も可能。

プレート表面の耐酸性能を追求耐酸塗装で耐酸性能に優れています。ヒーター電源及びセンサー線が本体より出ていますので、温調器などを自由に組み合わせる事が可能です。コの字状の脚付きで卓上で使用可能です。プレート周囲に高さ5mmの立ち上げがありますので、少量の薬品等がこぼれても安心です。