4ページ目: 実験研究用ホットプレート

四隅のない円筒状なので、ワークへの加熱がむらなく行えます。ワークの出し入れが行いやすい上蓋式設計です。設定温度とタイマーをセットするだけの簡易操作で、1℃/1分での設定が可能です。窒素流入で酸化・脱炭・硬度不足を軽減できます。

四隅のない円筒状なので、ワークへの加熱がむらなく行えます。ワークの出し入れが行いやすい上蓋式設計です。設定温度とタイマーをセットするだけの簡易操作で、1℃/1分での設定が可能です。

四隅のない円筒状なので、ワークへの加熱がむらなく行えます。ワークの出し入れが行いやすい上蓋式設計です。設定温度とタイマーをセットするだけの簡易操作で、1℃/1分での設定が可能です。窒素流入で酸化・脱炭・硬度不足を軽減できます。

24時間運転可能です。自動冷却機能を搭載しています。

無風冷却方式ですので、風による保存物の乾燥を防ぎます。扉の開閉時に冷気がもれにくく、保存物の出し入れ・整理に便利な引出し式です。

平面プレートヒーターを発熱源に採用した大面積均一温度分布タイプです。3パターンのタイマー設定が可能です。ヒーター・温調器分離タイプで、耐久性に優れています。

常用最高1200℃・スピード昇温。炉心管・ガス置換ユニットを使用すると不活性環境下での加熱が可能です。炉心管は用途に応じて材質を選べます。設定温度に連動する自動過昇温防止機能に加え、完全独立式過昇防止機能、センサー異常を検知するバーンアウト機能も装備されています。ドアを開けた際にヒーターへの通電をカットする安全機能付きです。

制御用温調器とは別に独立した過昇温防止用の温調器を搭載しています。K熱電対、ヒーター接続線を付属しています。

K熱電対、ヒーター接続線を付属しています。

全密閉・一体構造で防爆性を構造上有します。本体外周は防熱網付きで安心です。底上げ構造で実験台への熱伝導を軽減します。フラスコ破損時に液が内部に浸透しません。フラスコよりひと回り大きい機種に水や熱媒体オイルを入れてマイルドな加熱も可能です。

耐蝕性・密閉性(全密閉・一体構造)・防爆性に優れています。本体外周は防熱網付きで安心です。底上げ構造で実験台への熱伝導を軽減します。フラスコ破損時に液が内部に浸透しません。フラスコよりひと回り大きい機種に水や熱媒体オイルを入れてマイルドな加熱も可能です。

シリコンゴム製の面状発熱体を用いたスリムなホットプレートです。 厚みが9.5mmと薄く、プレートを装置に組み込む場合にスペースを必要としません。軽量なため取扱いも容易です。

プレートと温調器が分離しているセパレート型のホットプレートです。ドラフトチャンバー内での使用に適しています。 特殊ヒーターにより最高温度600℃を実現しました。

ステンレス天板で耐薬品性に優れ、常にきれいに使えます。ステージが広く、効率よく使えます。背の低い安定形。

デジタル表示・設定。プレート温度の均一性に優れています。プレート材質はアルミニウム・硬質アルマイト仕上げ。安全装置として温度ヒューズ、自己診断機能(センサ異常・温度異常・内部メモリ異常)を備えています。

3つのプログラムセットにより温度を任意に設定。温度プローブ付属により、溶液の実測値を制御可能。タイマー付(99時間まで)。

吸着部はセラミック焼結体でフィルム状ワークの加熱を精密に行えます。WPFCタイプは配線部が防水構造です。装置内組み込み用途にも適しています。

吸着部はセラミック焼結体でフィルム状ワークの加熱を精密に行えます。装置内組み込み用途にも適しています。

プログラム機能付きです。

プログラム機能付きです。

ホットプレートの上に乗せることで、マントルヒータのように丸底フラスコを加熱することができます。底のリングをつけ外しすることで、Φ135mm・Φ145mmのホットプレートにぴったりとはまります。円盤アダプターを底部に取り付けると、角型ホットプレートにも使用可能です。ホットスターラー上に設置し、撹拌しながら過熱することも可能です。

最高温度600℃ご要望の多い600℃対応を実現サイズは2種類作業エリア、ワークサイズに合わせ2サイズを用意天板は耐薬性を高めたセラミックコーティング仕様です。焼鈍処理を施したSUS304天板を使用しておりますので、天板が割れたりすることがありません。過昇温防止には手動復帰型バイメタルを採用しています。シーズヒーターを採用し、高温の加熱が可能です。

天板はガラスセラミック製で耐熱性や耐熱衝撃性に強く、耐薬品性にも優れています。SDカードを差し込むことで温度・時間をロギングでき、実験データの保管や記録が容易です。タイマーによるオートオフ機能付きです。

耐酸塗装で耐酸性能に優れています。プレート周囲に高さ5mmの立ち上げがありますので、少量の薬品等がこぼれても安心です。

小型でアルミビーズバスとしても使用できる。50℃～250℃の温度範囲用のホットプレートです。プレート温度の均一性に優れております。

中温度専用で温度分布精度が高いホットプレートです。 ●パラフィンの伸展に使用できます。 ●天板は耐薬品性に優れるステンレス製です。ステージはフラットで背が低く、作業が行いやすくなっています。

酸性ガス雰囲気下での使用を想定して、本体の耐酸性を向上させたホットプレートです。 本体からコントローラーを離して使用できるセパレートタイプです。

サンドバスとしても使えるように天板の外側が立ち上がっています。 天板の下にアルミプレートを配置することにより、良好な温度分布を実現しています。 ATF-300/500/600は、天板に耐薬品性のあるフッ素樹脂コーティングを施しています。

温度精度が高く、高温下でも安定して温度を保てます。 外装への放熱が少ないボディ設計になっています。

高温シーズヒーターとデジタル指示温度調節計(PID)の採用により、精度の高い温度制御を行えるホットプレートです。

プレートはセラミックコーティングされているため、耐熱性・耐薬品性及び耐食性に優れています。

高温から低温まで、幅広い範囲で高精度の温度制御を行うことができるサーキュレーターです。 パネルの前面で全ての操作を行うことができ、内部循環・外部循環の切り替えや外部循環量の調整も簡単に行えます。 専用ソフトウェアにより、PCから温度のモニタや記録が行えます。

マイコン式比例制御方式で、安定した温度制御が可能です。 本体正面操作部とホットプレート部との間には安全ランプを装備しています(天板温度が55℃以下になるまで点灯)。 最高温度まで約30分で昇温します。 天板温度分布幅は4℃(200℃設定時)の高精度です。